Background Image
Table of Contents Table of Contents
Previous Page  187 / 320 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 187 / 320 Next Page
Page Background

185

мест в места с меньшей температурой. Увеличение фоновой температуры

плазмы с 3,5∙10

4

К до 7∙10

4

К не ведет к изменению ее абсолютного прогрева

в области ММЗ возмущения.

Теплопроводность плазмы может оказывать существенное влияние

на форму ММЗ возмущения, образовавшегося при распаде заданного

возмущения. Сопоставление результатов, представленных на рисунке 6.19,

с результатами, полученными для плазмы с теплопроводностью в 1000 раз

большей, говорит о том, что с ростом теплопроводности постепенно

исчезает

внутренняя

структура

ММЗ

волны.

Действительно,

теплопроводность играет роль эффективной температурной вязкости

в процессах, где тепловые процессы играют решающую роль.

Рисунок 6.19 – Распад начального пространственно локализованного возмущения

на МГД-волны

2 . Результаты моделирования взаимодействия волн, образовавшихся

при распаде заданного возмущения, с «жесткой» стенкой представлены на

рисунках 6.20-6.22. При отражении альвеновской волны (рисунки 6.20а,б)

зафиксировано образование всех типов волн. Альвеновская волна, потеряв

энергию на отражении, обеспечила возникновение сопровождаемой

нагревом плазмы ММЗ волны и БМЗ волну. Последняя, заметно опережая

первые две, быстро отходит от стенки. БМЗ волна отражается от стенки

со слабым изменением амплитуды. При ее отражении дополнительно

возникает только слабая ММЗ волна с амплитудой, существенно меньшей

по сравнению со случаем отражения альвеновской волны. Альвеновская

волна при отражении БМЗ вообще не образуется.